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工作職責(zé)

1.光刻工藝條件開發(fā),保障光刻測試穩(wěn)定性；

2.對光刻測試的異常可以獨立分析,保障測試結(jié)果的可靠性；

3.能夠獨立完成測試報告,并且對測試數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,得出結(jié)論；

4.進(jìn)行光刻工藝改善,對研發(fā)部門給出改善建議,推進(jìn)研發(fā)進(jìn)度；

5.參與光刻設(shè)備維護(hù),調(diào)試,按時移交滿足產(chǎn)能需求。

能力要求

1.掌握NIKON,CANON,ASML的Krf系列曝光設(shè)備操作方法；

2.掌握突覺顯影劑Lithius及以上型號的設(shè)備操作方法及程序編輯；

3.掌握日立HITCHAI系列CDSEM使用方法；

4.了解膜厚儀的測量,了解光刻膠切片設(shè)備；

5.具有良好的溝通能力,團(tuán)隊合作精神。

任職資格

1.具有2年以上光刻工藝經(jīng)驗-FAB工作經(jīng)驗優(yōu)先；

2.本科及以上學(xué)歷,化學(xué)/微電子/光學(xué)等相關(guān)專業(yè)。