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    更新于 12月6日

    光刻工藝工程師

    9千-1.2萬
    • 廣州南沙區(qū)
    • 1-3年
    • 本科
    • 全職
    • 招1人

    職位描述

    光刻工藝刻蝕工藝
    職責(zé)描述:
    1、與客戶保持積極溝通,確保機臺按期測試。
    2、分析曝光測試數(shù)據(jù),保證測試結(jié)果的可靠性;
    3、根據(jù)測試數(shù)據(jù)給予研發(fā)部門提出改善建議,推進研發(fā)進度;
    4、配合市場技術(shù)支持,維護客戶關(guān)系。
    任職要求:
    1、大學(xué)本科及以上學(xué)歷,化學(xué)、高分子材料、微電子技術(shù)等相關(guān)專業(yè);
    2、2年以上FAB廠光刻工藝經(jīng)驗,熟悉掌握涂膠、顯影、曝光等工藝流程;
    3、具有較強的動手能力、溝通能力和安全意識,工作積極主動,態(tài)度認真,責(zé)任心強;
    4、熟悉Word、Excel、PPT等辦公軟件,能夠輸出工作總結(jié)、匯報文檔。

    該崗位工作地點可在廣州、上海、浙江

    工作地點

    南沙粵港澳創(chuàng)意中心二期B1棟1004室

    職位發(fā)布者

    劉女士/人事經(jīng)理

    剛剛活躍
    立即溝通
    公司Logo廣州微納光刻材料科技有限公司
    公司簡介:廣州微納光刻材料科技有限公司創(chuàng)立于2020年,是廣東省內(nèi)唯一一家專業(yè)開發(fā)90nm-55nm制程高端半導(dǎo)體芯片制造用193nm光刻膠及相關(guān)材料的高科技公司,為中芯國際、廣州粵芯公司等客戶定制光刻膠。本公司的ArF國產(chǎn)光刻膠研發(fā)項目始于2016年,創(chuàng)始人首先在珠海橫琴創(chuàng)立的光刻膠樹脂公司自主研發(fā),配方在上海、北京等地的客戶生產(chǎn)線的ASML光刻機上(90nm、65nm、55nm)進行了大量的評估,其ArF光刻膠的關(guān)鍵技術(shù)指標,如DOF等,已超過現(xiàn)有頭部梯隊商用產(chǎn)品,在國內(nèi)處于領(lǐng)先地位。總部設(shè)立于廣州南沙區(qū),并在珠海、上海設(shè)有研發(fā)中心和實驗室。團隊簡介:技術(shù)團隊以原英特爾出身的博士為核心,進行光刻膠材料研發(fā);有和博士合作多年的日本資深光刻膠工藝技術(shù)專家,負責(zé)生產(chǎn)工藝和質(zhì)量管控;兩位原中芯國際光刻部門的光刻專家負責(zé)曝光評估和市場策劃;核心成員在光刻膠材料開發(fā)和應(yīng)用方面擁有豐富經(jīng)驗;團隊中有資深財務(wù)和法務(wù)顧問,負責(zé)風(fēng)險管理;運營模式按照國際光刻膠和半導(dǎo)體公司進行;公司已選定浙江嘉興與廣東新豐工廠兩座符合安全生產(chǎn)標準的工廠進行代工生產(chǎn),嚴格按照SPC進行生產(chǎn)和質(zhì)量管理。產(chǎn)品介紹:廣微納公司已經(jīng)注冊“納刻”商標,形成了納刻系列的光刻膠產(chǎn)品。本公司光刻膠技術(shù)100%在本土研發(fā),具有完全的自主知識產(chǎn)權(quán)。其中在ArF光刻膠系列,有性能優(yōu)異的ArF干法光刻膠。經(jīng)過中芯北京55 nm節(jié)點產(chǎn)線評測,結(jié)果為DOF大于300 nm@ 81 nm L/S,優(yōu)于現(xiàn)有商用ArF干法光刻膠。原材料方面:公司對產(chǎn)品中使用的ArF感光樹脂和光敏劑的專利技術(shù)擁有使用權(quán)。所有光刻膠原材料由珠海公司專供,保證了排他性的競爭力。專利介紹: ArF光刻膠中國發(fā)明專利2項,覆蓋了90nm-55nm的線型光刻膠和孔洞型光刻膠的配方,于2021年3月取得了“一種能夠用于90~60nm半導(dǎo)體制程的ArF光刻膠及其制備方法于應(yīng)用”專利授權(quán),專利號ZL 201910388389.4公司發(fā)展現(xiàn)狀及規(guī)劃:廣微納公司現(xiàn)已具備一定資本規(guī)模和專利技術(shù)水平,實現(xiàn)ArF光刻膠的開發(fā)、國產(chǎn)替代,填補國內(nèi)高端光刻膠材料產(chǎn)品的空白。目前,公司ArF光刻膠加侖樣品正提供客戶進行測試。未來公司產(chǎn)品技術(shù)將為半導(dǎo)體客戶進行量身定制,以提高良率和拓寬工藝窗口為目的,為客戶提供高性能的光刻膠。
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