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崗位職責
1、 協(xié)助經(jīng)理進行新產(chǎn)品平臺工藝建立，工藝項目持續(xù)改善；
2、 協(xié)助經(jīng)理依據(jù)部門目標,產(chǎn)品工藝要求及產(chǎn)能的需求規(guī)劃黃光機臺種類及數(shù)量；
3、 主導Track/Scanner機臺調(diào)試、工藝開發(fā)、工藝優(yōu)化、Cpk提升等工作；
4、 主導分析光刻制程有關問題，降低工藝異常發(fā)生率，提高產(chǎn)品性能和良率，保障光刻工藝穩(wěn)定，設備正常運行；
5、 負責持續(xù)降低設備及工藝相關的生產(chǎn)成本；
6、 主導光刻區(qū)設備及工藝相關規(guī)范文件制定及評定；
7、 負責光刻區(qū)設備、材料及備件供貨商合作改善與提升技術質(zhì)量與成本；
8、 負責和公司內(nèi)部工程、運營以及商務團隊合作一起對設備及工藝選擇、供應鏈管理以及客戶質(zhì)量相關的問題做出判斷和建議。

任職要求：
1、 本科及以上，材料、物理、通信、機械、MEMS、光電子、微電子相關專業(yè)；
2、 半導體光刻5年以上工作經(jīng)驗，有射頻前端、射頻濾波器或射頻放大器工作經(jīng)驗者優(yōu)先；
3、 有Nikon/Canon光刻機、CDSEM、OVL設備工藝經(jīng)驗者優(yōu)先；
4、 熟悉掌握半導體制造工藝流程,有項目經(jīng)驗、改善專題業(yè)績者優(yōu)先；
5、 良好的數(shù)據(jù)整理,報告匯總能力,工作責任性強，有較強的抗壓能力；
6、 英語可以作為工作語言，方便與國外供應商交流，有日語基礎者優(yōu)先。