職位描述
蝕刻工藝外延工藝離子注入工藝
職位描述：
1、負(fù)責(zé)光芯片干法刻蝕和PECVD工藝的開發(fā)、優(yōu)化與驗(yàn)證；
2、管理干法刻蝕設(shè)備，確保設(shè)備正常運(yùn)行，提升工藝良率；
3、分析工藝數(shù)據(jù)，解決生產(chǎn)中的工藝異常問題；
4、協(xié)助新產(chǎn)品導(dǎo)入，優(yōu)化工藝流程，提高生產(chǎn)效率；
5、編寫工藝文件和操作指導(dǎo)書，為生產(chǎn)團(tuán)隊(duì)提供技術(shù)支持。
2、管理干法刻蝕設(shè)備，確保設(shè)備正常運(yùn)行，提升工藝良率；
3、分析工藝數(shù)據(jù)，解決生產(chǎn)中的工藝異常問題；
4、協(xié)助新產(chǎn)品導(dǎo)入，優(yōu)化工藝流程，提高生產(chǎn)效率；
5、編寫工藝文件和操作指導(dǎo)書，為生產(chǎn)團(tuán)隊(duì)提供技術(shù)支持。
任職資格：
1、本科及以上學(xué)歷，物理， 化學(xué)，材料類等相關(guān)專業(yè)；
2、應(yīng)屆畢業(yè)生或者1年以上半導(dǎo)體干法刻蝕工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn)；
3、了解干法刻蝕工藝原理及設(shè)備操作；
4、具備數(shù)據(jù)分析能力，能夠使用相關(guān)工具進(jìn)行工藝優(yōu)化；
5、學(xué)習(xí)能力強(qiáng)，具備良好的溝通能力和團(tuán)隊(duì)合作精神。
2、應(yīng)屆畢業(yè)生或者1年以上半導(dǎo)體干法刻蝕工藝開發(fā)經(jīng)驗(yàn)；
3、了解干法刻蝕工藝原理及設(shè)備操作；
4、具備數(shù)據(jù)分析能力，能夠使用相關(guān)工具進(jìn)行工藝優(yōu)化；
5、學(xué)習(xí)能力強(qiáng)，具備良好的溝通能力和團(tuán)隊(duì)合作精神。
工作地點(diǎn)
武漢國科光領(lǐng)半導(dǎo)體科技有限公司
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職位發(fā)布者
房女士/HR負(fù)責(zé)人
當(dāng)前在線立即溝通
武漢國科光領(lǐng)半導(dǎo)體科技有限公司武漢國科光領(lǐng)半導(dǎo)體科技有限公司由中國科學(xué)院半導(dǎo)體所光子集成團(tuán)隊(duì)核心力量創(chuàng)辦，于武漢東湖高新區(qū)注冊(cè)成立。公司采用IDM模式，涵蓋光芯片的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造和銷售在內(nèi)的全部運(yùn)營業(yè)務(wù)，主營10G/25G/50G/100G EML、25G DFB、10G/25G DBR、25G VCSEL、大功率激光雷達(dá)等系列激光器芯片，定位于25G及以上高端激光器芯片市場。產(chǎn)品可廣泛應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心（云）、電信網(wǎng)絡(luò)（管）、接入終端（端）領(lǐng)域。公司廠房位置為武漢市東湖高新區(qū)湖北日?qǐng)?bào)楚天傳媒科創(chuàng)園二期1#廠房一層和二層，總建筑面積5500平米。
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