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本科及以上學(xué)歷，微電子、物理或MEMS相關(guān)專業(yè)畢業(yè)；

熟悉mems常規(guī)工藝，如光刻、鍍膜、刻蝕、電鍍等，具有mems工藝平臺工作經(jīng)驗者優(yōu)先；

能夠使用Ansys、Comsol等有限元仿真軟件優(yōu)先；

熟練使用AutoCAD、Solidworks等制圖工具；

具有一定的獨立解決問題的能力；

具有良好的溝通能力和團隊協(xié)作能力。

具有一定的文獻檢索閱讀能力。